Síntesis de catalizadores de óxidos de cobre sobre materiales MCM-41 en un reactor de lecho fijo

Abstract

La deposición química de vapor (CVD) es una técnica de síntesis de catalizadores con la cual se pueden preparar materiales con propiedades catalíticas atractivas, como el producir catalizadores con alta dispersión de la fase activa. Esta propiedad junto con las características de los materiales MCM-41, hacen de esta técnica un proceso atractivo catalíticamente. En este trabajo se realizó la síntesis de catalizadores de óxidos de cobre sobre materiales MCM-41 modificados con Al. Los materiales Al-MCM-41 se prepararon con diferente relación Si/Al. La CVD de cobre se llevó a cabo empleando un reactor L de lecho fijo empleando acetilacetonato de Cobre (II) como precursor del metal. Se empleó O2 como gas de arrastre y reactivo. Los materiales se caracterizaron empleando los métodos de fisisorción de nitrógeno, difracción de rayos X y espectrometría de masas con plasma de acoplamiento inductivo. Con base a los resultados obtenidos, se determina que la estructura de los materiales MCM-41 se mantiene sin modificaciones importantes después de realizar el tratamiento de CVD, lo cual muestra que este proceso es adecuado para la preparación de catalizadores de óxidos de cobre sobre materiales mesoporosos del tipo MCM-41.